文献
J-GLOBAL ID:200902110693643610
整理番号:98A0108234
新規な変調ドープAlN/GaN絶縁ゲートヘテロ構造電界効果トランジスタと電荷制御の一次元シミュレーション
Novel AlN/GaN insulated gate heterostructure field effect transistor with modulation doping and one-dimensional simulation of charge control.
著者 (2件):
IMANAGA S
(Sony Corp. Res. Center, Yokohama-shi, JPN)
,
KAWAI H
(Sony Corp. Res. Center, Yokohama-shi, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
82
号:
11
ページ:
5843-5858
発行年:
1997年12月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)