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文献
J-GLOBAL ID:200902111481326212   整理番号:00A0908575

New Materials for 157nm Photoresists: Characterization and Properties.

著者 (9件):
CRAWFORD M K
(DuPont Central Res. & Dev., DE)
FEIRING A E
(DuPont Central Res. & Dev., DE)
FELDMAN J
(DuPont Central Res. & Dev., DE)
PERIYASAMY M
(DuPont iTechnol., DE)
SCHADT F L III
(DuPont iTechnol., DE)
KUNZ R R
(MIT Lincoln Lab., MA)
RAO V
(Intel Corp., CA)
LIAO L
(Intel Corp., CA)
HOLL S M
(Intel Corp., CA)

資料名:
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

巻: 3999  号: Pt.1  ページ: 357-364  発行年: 2000年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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