文献
J-GLOBAL ID:200902112461505559
整理番号:95A0125268
立方晶GaN/(100)GaAsと六方晶GaN/(111)GaAs基板上におけるGaN層の水素化物気相エピタクシーの比較
Comparison of Hydride Vapor Phase Epitaxy of GaN Layers on Cubic GaN/(100)GaAs and Hexagonal GaN/(111)GaAs Substrates.
著者 (4件):
TSUCHIYA H
(Univ. Tsukuba, Ibaraki)
,
HASEGAWA F
(Univ. Tsukuba, Ibaraki)
,
OKUMURA H
(Electrotechnical Lab., Ibaraki)
,
YOSHIDA S
(Electrotechnical Lab., Ibaraki)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
33
号:
12A
ページ:
6448-6453
発行年:
1994年12月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)