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著者 (5件)：
資料名：
巻： 66 号： 20 ページ： 2655-2657 発行年： 1995年05月15日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902112690861059
整理番号：95A0518304
洗浄水の表面張力で生じるパターン変形によるシリコンのナノラインの寸法制約
Dimensional limitations of silicon nanolines resulting from pattern distortion due to surface tension of rinse water.
NAMATSU H
(NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN)
,
KURIHARA K
(NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN)
,
NAGASE M
(NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN)
,
IWADATE K
(NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN)
,
MURASE K
(NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 66 号： 20 ページ： 2655-2657 発行年： 1995年05月15日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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