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著者 (9件)：
資料名：
巻： 14 号： 4 ページ： 603-611 発行年： 2001年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902112804391562
整理番号：01A0758399
157nmリソグラフィー用の新しい樹脂のシステム
New Resin Systems for 157nm Lithography.
DAMMEL R R
(Clariant Corp., NJ, USA)
,
SAKAMURI R
(Clariant Corp., NJ, USA)
,
KUDO T
(Clariant Corp., NJ, USA)
,
ROMANO A
(Clariant Corp., NJ, USA)
,
RHODES L
(B.F. Goodrich Corp., OH, USA)
,
VICARI R
(B.F. Goodrich Corp., OH, USA)
,
HACKER C
(B.F. Goodrich Corp., OH, USA)
,
CONLEY W
(Intl. SEMATECH, TX, USA)
,
MILLER D
(Intl. SEMATECH, TX, USA)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 14 号： 4 ページ： 603-611 発行年： 2001年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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