文献
J-GLOBAL ID:200902113409277650
整理番号:01A0247921
完全空乏化SOI MOSFETのしきい値電圧のSOI厚み敏感性に関するバックゲート効果
Back Gate Effects on Threshold Voltage Sensitivity to SOI Thickness in Fully-Depleted SOI MOSFETs.
著者 (7件):
NOGUCHI M
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
NUMATA T
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
MITANI Y
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
SHINO T
(Toshiba Corp. Semiconductor Co., Yokohama, JPN)
,
KAWANAKA S
(Toshiba Corp. Semiconductor Co., Yokohama, JPN)
,
OOWAKI Y
(Toshiba Corp. Semiconductor Co., Yokohama, JPN)
,
TORIUMI A
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名:
IEEE Electron Device Letters
(IEEE Electron Device Letters)
巻:
22
号:
1
ページ:
32-34
発行年:
2001年01月
JST資料番号:
B0344B
ISSN:
0741-3106
CODEN:
EDLEDZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)