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著者 (4件)：
資料名：
巻： 3999 号： Pt.1 ページ： 23-30 発行年： 2000年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902114939660159
整理番号：00A0908543
Structurally variable cyclopolymers with excellent etch resistance and their application to 193nm lithography.
KLOPP J M
(Univ. California, CA)
,
PASINI D
(Univ. California, CA)
,
FRECHET J M J
(Univ. California, CA)
,
BYERS J D
(International SEMATECH, TX)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 3999 号： Pt.1 ページ： 23-30 発行年： 2000年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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