文献
J-GLOBAL ID:200902114990394420
整理番号:97A0173636
サブクウォータミクロンデバイス開発のための電子ビーム直接描画技術
Electron Beam Direct Writing Techniques for the Development of Sub-Quarter-Micron Devices.
著者 (9件):
FUJINO T
(Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN)
,
MAEDA H
(Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN)
,
KIMURA Y
(Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN)
,
HORIBE H
(Mitsubishi Electric Corp., Amagasaki, JPN)
,
IMANAGA Y
(Ryoden Semiconductor System Engineering, Itami, JPN)
,
SHINKAWATA H
(Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN)
,
NAKAO S
(Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN)
,
KATO T
(Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN)
,
YASUOKA A
(Mitsubishi Electric Corp., Itami, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
35
号:
12A
ページ:
6320-6327
発行年:
1996年12月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)