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資料名：
巻： 70 号： 25 ページ： 3338-3340 発行年： 1997年06月23日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902115765237010
整理番号：97A0719268
その場レーザアニーリングを備えた二個のターゲットからのパルスKrFレーザアブレーション装置によるBaTiO3薄膜へのコバルトドーピング
Cobalt doping in BaTiO3 thin films by two-target pulsed KrF laser ablation with in situ laser annealing.
ITO A
(Keio Univ., Yokohama, JPN)
,
MACHIDA A
(Keio Univ., Yokohama, JPN)
,
OBARA M
(Keio Univ., Yokohama, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 70 号： 25 ページ： 3338-3340 発行年： 1997年06月23日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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