文献
J-GLOBAL ID:200902115783827798
整理番号:99A0577427
窒化ほう素薄膜の構造に対するチタンとアルミニウムの導入効果
Effects of titanium and aluminum incorporations on the structure of boron nitride thin films.
著者 (6件):
KOLITSCH A
(Forschungszentrum Rossendorf(FZR), Dresden, DEU)
,
WANG X
(Forschungszentrum Rossendorf(FZR), Dresden, DEU)
,
MANOVA D
(Forschungszentrum Rossendorf(FZR), Dresden, DEU)
,
FUKAREK W
(Forschungszentrum Rossendorf(FZR), Dresden, DEU)
,
MOELLER W
(Forschungszentrum Rossendorf(FZR), Dresden, DEU)
,
OSWALD S
(IFW Dresden, Dresden, DEU)
資料名:
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻:
8
号:
2/5
ページ:
386-390
発行年:
1999年03月
JST資料番号:
W0498A
ISSN:
0925-9635
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)