文献
J-GLOBAL ID:200902116235036770
整理番号:98A0604793
高温で使うための6H-SiCのAuゲート金属-半導体電界効果トランジスタの作製過程と特性
Fabrication Procedures and Characteristics of 6H-SiC Au-gate Metal-Semiconductor Field-Effect Transistor for Use at High Temperatures.
著者 (3件):
TODA T
(SANYO Electric Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
UEDA Y
(SANYO Electric Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
IBARAKI A
(SANYO Electric Co., Ltd., Osaka, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
37
号:
4A
ページ:
1817-1818
発行年:
1998年04月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)