文献
J-GLOBAL ID:200902116799790220
整理番号:93A0912325
エピタキシャルTiO2膜の超高真空有機金属化学蒸着とその場評価
Ultrahigh vacuum metalorganic chemical vapor deposition growth and in situ characterization of epitaxial TiO2 films.
著者 (9件):
CHEN S
(Eastman Kodak Co., New York)
,
MASON M G
(Eastman Kodak Co., New York)
,
GYSLING H J
(Eastman Kodak Co., New York)
,
PAZ-PUJALT G R
(Eastman Kodak Co., New York)
,
BLANTON T N
(Eastman Kodak Co., New York)
,
CASTRO T
(Univ. Minnesota, Minnesota)
,
CHEN K M
(Univ. Minnesota, Minnesota)
,
FICTORIE C P
(Univ. Minnesota, Minnesota)
,
EVANS J F
(Univ. Minnesota, Minnesota)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
11
号:
5
ページ:
2419-2429
発行年:
1993年09月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)