文献
J-GLOBAL ID:200902117213810185
整理番号:95A0877547
STMによるSi(100)2×1上でのホスフィンの吸着と分解
Phosphine adsorption and decomposition on Si(100) 2×1 studied by STM.
著者 (6件):
KIPP L
(Xerox Palo Alto Res. Center, California)
,
BRINGANS R D
(Xerox Palo Alto Res. Center, California)
,
BIEGELSEN D K
(Xerox Palo Alto Res. Center, California)
,
NORTHRUP J E
(Xerox Palo Alto Res. Center, California)
,
GARCIA A
(Xerox Palo Alto Res. Center, California)
,
SWARTZ L-E
(Xerox Palo Alto Res. Center, California)
資料名:
Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics
(Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics)
巻:
52
号:
8
ページ:
5843-5850
発行年:
1995年08月15日
JST資料番号:
D0746A
ISSN:
1098-0121
CODEN:
PRBMDO
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)