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著者 (3件)：
資料名：
巻： 17 号： 6 ページ： 3312-3316 発行年： 1999年11月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902117482512077
整理番号：00A0086141
周期的ガス添加を用いた高周波マグネトロンスパッタリングによる蒸着膜組成の精密制御
Fine control of deposition film compositions using radio-frequency reactive sputtering with periodic gas additions.
KIMURA S
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
HONDA T
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
FUKUSHI D
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 17 号： 6 ページ： 3312-3316 発行年： 1999年11月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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