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著者 (4件)：
資料名：
巻： 1927 号： Pt 1 ページ： 310-319 発行年： 1993年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902117964071680
整理番号：93A0851229
NA and σ Optimization for High NA I-line Lithography.
YAMANAKA K
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
IWASAKI H
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
NOZUE H
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
KASAMA K
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 1927 号： Pt 1 ページ： 310-319 発行年： 1993年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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