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著者 (5件)：
資料名：
巻： 37 号： 9A ページ： 5028-5032 発行年： 1998年09月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902118955273837
整理番号：98A0932077
マイクロ波プラズマの下流における負イオン支援シリコン酸化
Negative Ion Assisted Silicon Oxidation in Downstream of Microwave Plasma.
KOROMOGAWA T
(Tokai Univ., Hiratsuka, JPN)
,
FUJII T
(Tokai Univ., Hiratsuka, JPN)
,
YAMASHITA A
(Tokai Univ., Hiratsuka, JPN)
,
HORIIKE Y
(Toyo Univ., Kawagoe, JPN)
,
SHINDO H
(Tokai Univ., Hiratsuka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37 号： 9A ページ： 5028-5032 発行年： 1998年09月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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