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著者 (9件)：
資料名：
巻： 15 号： 4 ページ： 591-602 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902119090966609
整理番号：02A0616915
157/193nmリソグラフィー用のふっ素化重合体 化学,新しいプラットホーム,処方戦略及びリソグラフィー評価
Fluoropolymers for 157/193 nm Lithography: Chemistry, New Platform, Formulation Strategy, and Lithographic Evaluation.
ITO H
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
TRUONG H D
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
OKAZAKI M
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
MILLER D C
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
FENDER N
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
BROCK P J
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
WALLRAFF G M
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
LARSON C E
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
,
ALLEN R D
(IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15 号： 4 ページ： 591-602 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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