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著者 (6件)：
資料名：
巻： 18 号： 6 ページ： 3181-3184 発行年： 2000年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902119333577525
整理番号：01A0157031
集束イオンビーム化学蒸着による三次元ナノ構造の作製
Three-dimensional nanostructure fabrication by focused-ion-beam chemical vapor deposition.
MATSUI S
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
KAITO T
(Seiko Instrument Inc., Shizuoka, JPN)
,
FUJITA J
(NEC Fundamental Res. Lab., Ibaraki, JPN)
,
KOMURO M
(MITI Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
KANDA K
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
HARUYAMA Y
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 18 号： 6 ページ： 3181-3184 発行年： 2000年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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