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著者 (9件)：
資料名：
巻： 14 号： 6 ページ： 3825-3828 発行年： 1996年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902119904105227
整理番号：97A0194299
角度制限型の投影電子ビームリソグラフィー概念証明システムを用いた原型投影電子ビームステッパ散乱の予備的結果
Preliminary results from a prototype projection electron-beam stepper-scattering with angular limitation projection electron beam lithography proof-of-concept system.
HARRIOTT L R
(Bell Lab., New Jersey)
,
BRADY K
(Bell Lab., New Jersey)
,
CONNELLY W F
(Bell Lab., New Jersey)
,
DIMARCO R
(Bell Lab., New Jersey)
,
HOPKINS L
(Bell Lab., New Jersey)
,
KRAUS J S
(Bell Lab., New Jersey)
,
PEABODY M L
(Bell Lab., New Jersey)
,
WERDER K S
(Bell Lab., New Jersey)
,
WINDT D
(Bell Lab., New Jersey)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 14 号： 6 ページ： 3825-3828 発行年： 1996年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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