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資料名：
巻： 42 号： 5 ページ： 607-620 発行年： 1998年09月
JST資料番号： D0061B ISSN： 0018-8646 CODEN： IBMJAE 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902120619734421
整理番号：98A0992242
マイクロエレクトロニクスのための無電解析出させた拡散バリヤ
Electrolessly deposited diffusion barriers for microelectronics.
O’SULLIVAN E J
(IBM Res. Div., New York)
,
SCHROTT A G
(IBM Res. Div., New York)
,
PAUNOVIC M
(IBM Res. Div., New York)
,
SAMBUCETTI C J
(IBM Res. Div., New York)
,
MARINO J R
(FED Corp., New York)
,
BAILEY P J
,
KAJA S
(IBM Microelectronics Div., New York)
,
SEMKOW K W
(IBM Microelectronics Div., New York)
資料名：
IBM Journal of Research and Development
(IBM Journal of Research and Development)
巻： 42 号： 5 ページ： 607-620 発行年： 1998年09月
JST資料番号： D0061B ISSN： 0018-8646 CODEN： IBMJAE 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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