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著者 (3件)：
資料名：
巻： 87 号： 1 ページ： 484-492 発行年： 2000年01月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902120641223201
整理番号：00A0185688
進歩したゲート誘電体材料用のハフニウム及びジルコニウムのけい酸塩
Hafnium and zirconium silicates for advanced gate dielectrics.
WILK G D
(Texas Instruments, Texas)
,
WALLACE R M
(Texas Instruments, Texas)
,
ANTHONY J M
(Texas Instruments, Texas)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 87 号： 1 ページ： 484-492 発行年： 2000年01月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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