文献
J-GLOBAL ID:200902120728314432
整理番号:01A0160481
4H-SiCの高電圧Shcottky整流器用のバナジウムイオンを注入したガードリング
Vanadium Ion Implanted Guard Rings for High-Voltage 4H-SiC Schottky Rectifiers.
著者 (6件):
HATAYAMA T
(Ion Engineering Res. Inst. Corp., Osaka, JPN)
,
YONEDA T
(Ion Engineering Res. Inst. Corp., Osaka, JPN)
,
NAKATA T
(Ion Engineering Res. Inst. Corp., Osaka, JPN)
,
WATANABE M
(Ion Engineering Res. Inst. Corp., Osaka, JPN)
,
KIMOTO T
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
MATSUNAMI H
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
39
号:
12A
ページ:
L1216-L1218
発行年:
2000年12月01日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)