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著者 (5件)：
資料名：
巻： 13 号： 5 ページ： 615-627 発行年： 1999年05月
JST資料番号： T0475A ISSN： 0169-4243 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902121288039864
整理番号：99A0552279
プラズマCVD B(C,N)フィルムのシリコン基板への接着力
Adhesion strength of plasma-assisted CVD B(C,N) film to silicon substrate.
NAKAMURA S
(Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu-shi, JPN)
,
SAITO N
(Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu-shi, JPN)
,
YOSHIOKA S
(Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu-shi, JPN)
,
NAKAAKI I
(Shizuoka Prefectural Fuji Industrial Inst., Fuji-shi, JPN)
,
SUZAKI Y
(Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu-shi, JPN)
資料名：
Journal of Adhesion Science and Technology
(Journal of Adhesion Science and Technology)
巻： 13 号： 5 ページ： 615-627 発行年： 1999年05月
JST資料番号： T0475A ISSN： 0169-4243 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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