文献
J-GLOBAL ID:200902121874071424
整理番号:02A0281072
ヘテロエピタキシャルCeO2/YSZ/Si(001)膜の面外及び面内モザイク分散におけるCeO2とYSZの間の異なる相関
Distinct correlation between CeO2 and YSZ in out-of-plane and in-plane mosaic dispersions of heteroepitaxial CeO2/YSZ/Si(001) films.
著者 (5件):
CHEN C H
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
SAIKI A
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
WAKIYA N
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
SHINOZAKI K
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
MIZUTANI N
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名:
Applied Physics. A. Materials Science & Processing
(Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻:
74
号:
5
ページ:
693-697
発行年:
2002年05月
JST資料番号:
D0256C
ISSN:
0947-8396
CODEN:
APHYCC
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)