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資料名：
巻： 101 号： 82(SDM2001 14-29) ページ： 19-24 発行年： 2001年05月24日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：200902122863999804
整理番号：01A0652849
エキシマレーザードーピング法によるp形ZnO層の形成
P-type ZnO Layer Formation by Excimer Laser Doping.
清水克美
(静岡大 電子工研)
,
三宅亜紀
(静岡大 電子工研)
,
青木徹
(静岡大 電子工研)
,
中西洋一郎
(静岡大 電子工研)
,
畑中義式
(静岡大 電子工研)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 101 号： 82(SDM2001 14-29) ページ： 19-24 発行年： 2001年05月24日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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