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J-GLOBAL ID:200902122863999804   整理番号:01A0652849

エキシマレーザードーピング法によるp形ZnO層の形成

P-type ZnO Layer Formation by Excimer Laser Doping.
著者 (5件):
清水克美
(静岡大 電子工研)
三宅亜紀
(静岡大 電子工研)
青木徹
(静岡大 電子工研)
中西洋一郎
(静岡大 電子工研)
畑中義式
(静岡大 電子工研)

資料名:
電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))

巻: 101  号: 82(SDM2001 14-29)  ページ: 19-24  発行年: 2001年05月24日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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