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資料名：
巻： 92 号： 9 ページ： 5525-5531 発行年： 2002年11月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902123213628638
整理番号：02A0901805
プラズマ促進化学蒸着反応器内の微粒子トラッピングのキャラクタリゼーション
Characterization of fine particle trapping in a plasma-enhanced chemical vapor deposition reactor.
SETYAWAN H
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
SHIMADA M
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
OKUYAMA K
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 92 号： 9 ページ： 5525-5531 発行年： 2002年11月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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