文献
J-GLOBAL ID:200902124531661810
整理番号:95A0639088
層状成長法によるガラス上への多結晶シリコン膜形成のその場実時間研究
In situ real time studies of the formation of polycrystalline silicon films on glass grown by a layer-by-layer technique.
著者 (2件):
AKASAKA T
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
SHIMIZU I
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
66
号:
25
ページ:
3441-3443
発行年:
1995年06月19日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)