文献
J-GLOBAL ID:200902124732519737
整理番号:00A0181092
電子ビーム蒸着法によるSnOx薄膜陰極の電気化学及び充放電特性
Charge/Discharge Performance of Electron Beam Deposited Tin Oxide Thin Film Negative Electrodes.
著者 (6件):
NAM S C
(Korea Univ., Seoul, KOR)
,
YOON Y S
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
CHO W I
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
CHO B W
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
YUN K S
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
CHUN H S
(Korea Univ., Seoul, KOR)
資料名:
電気化学および工業物理化学
(Electrochemistry)
巻:
68
号:
1
ページ:
32-37
発行年:
2000年01月05日
JST資料番号:
G0072A
ISSN:
1344-3542
CODEN:
EECTFA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)