文献
J-GLOBAL ID:200902126062114814
整理番号:97A0542854
NBTI-最新CMOS技術のPMOSFETにおけるチャネルホットキャリア効果
NBTI-channel hot carrier effects in pMOSFETs in advanced CMOS technologies.
著者 (6件):
LA ROSA G
(IBM Semiconductor Res. & Dev. Center, NY)
,
GUARIN F
(IBM Semiconductor Res. & Dev. Center, NY)
,
RAUCH S
(IBM Semiconductor Res. & Dev. Center, NY)
,
ACOVIC A
(IBM Semiconductor Res. & Dev. Center, NY)
,
LUKAITIS J
(IBM Semiconductor Res. & Dev. Center, NY)
,
CRABBE E
(IBM Semiconductor Res. & Dev. Center, NY)
資料名:
Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium
(Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium)
巻:
35th
ページ:
282-286
発行年:
1997年
JST資料番号:
A0631A
ISSN:
1541-7026
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)