Sorry, this section is only available in Japanese.
著者 (9件)：
資料名：
巻： 13 号： 4 ページ： 657-664 発行年： 2000年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：200902126794854926
整理番号：00A0692995
157nmレジスト材料 進捗報告
157 nm Resist Materials: A Progress Report.
CHIBA T
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
HUNG R J
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
YAMADA S
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
TRINQUE B
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
YAMACHIKA M
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
SOMERVELL M
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
BYERS J
(SEMATECH, TX)
,
CONLEY W
(SEMATECH, TX)
,
WILLSON C G
(Univ. Texas at Austin, TX)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 13 号： 4 ページ： 657-664 発行年： 2000年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。