文献
J-GLOBAL ID:200902126965627443
整理番号:00A0122773
157nmレジスト設計の展望
Outlook for 157nm resist design.
著者 (6件):
KUNZ R R
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
BLOOMSTEIN T M
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
HARDY D E
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
GOODMAN R B
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
DOWNS D K
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
,
CURTIN J E
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
17
号:
6
ページ:
3267-3272
発行年:
1999年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)