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著者 (8件)：
資料名：
巻： 15 号： 4 ページ： 603-611 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902127710632849
整理番号：02A0616916
高分解能フォトレジストのための新しい戦略
New Strategies for High Resolution Photoresists.
OBER C K
(Cornell Univ., New York)
,
DOUKI K
(Cornell Univ., New York)
,
VOHRA V R
(Cornell Univ., New York)
,
KWARK Y-J
(Cornell Univ., New York)
,
LIU X-Q
(Cornell Univ., New York)
,
CONLEY W
(International SEMATECH, Texas)
,
MILLER D
(International SEMATECH, Texas)
,
ZIMMERMAN P
(International SEMATECH, Texas)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15 号： 4 ページ： 603-611 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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