文献
J-GLOBAL ID:200902127730541491
整理番号:00A1058905
フルオロカーボン(C4F8,C3F6及びC5F8)プラズマ中の高分子膜堆積のラジカル反応速度
Radical kinetics for polymer film deposition in fluorocarbon (C4F8,C3F6 and C5F8) plasmas.
著者 (4件):
TAKAHASHI K
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
ITOH A
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
NAKAMURA T
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TACHIBANA K
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
374
号:
2
ページ:
303-310
発行年:
2000年10月17日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)