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著者 (2件)：
資料名：
巻： 36 号： 4A ページ： 2261-2266 発行年： 1997年04月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902128186965319
整理番号：97A0476813
WNx膜の作製とCu/Si接触系におけるその拡散障壁としての性質
Preparation of WNx Films and Their Diffusion Barrier Properties in Cu/Si Contact Systems.
TAKEYAMA M
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
NOYA A
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36 号： 4A ページ： 2261-2266 発行年： 1997年04月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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