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著者 (2件)：
資料名：
巻： 504 号： 1/2 ページ： 67-74 発行年： 2002年07月25日
JST資料番号： C0520A ISSN： 0027-5107 CODEN： MRFMEC 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902129830474590
整理番号：02A0674106
UVB及びX線誘発染色体異常形成に対するDNAトポイソメラーゼ阻害剤の後処理の影響
Post-treatment effects of DNA topoisomerase inhibitors on UVB- and X-ray-induced chromosomal aberration formations.
ISHII Y
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
IKUSHIMA T
(Kyoto Univ. Education, Kyoto, JPN)
資料名：
Mutation Research
(Mutation Research)
巻： 504 号： 1/2 ページ： 67-74 発行年： 2002年07月25日
JST資料番号： C0520A ISSN： 0027-5107 CODEN： MRFMEC 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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