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著者 (5件)：
資料名：
巻： 144 号： 2 ページ： 658-663 発行年： 1997年02月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902129869395441
整理番号：97A0356893
ボラジンからプラズマ増強化学蒸着で作成したSiBNおよびSiBON皮膜の内部接続誘電体としての応用
Use of SiBN and SiBON Films Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition from Borazine as Interconnection Dielectrics.
KANE W F
(IBM Res. Div., New York, USA)
,
COHEN S A
(IBM Res. Div., New York, USA)
,
HUMMEL J P
(IBM Res. Div., New York, USA)
,
LUTHER B
(IBM Res. Div., New York, USA)
,
BEACH D B
(Oak Ridge National Lab., Tennessee, USA)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 144 号： 2 ページ： 658-663 発行年： 1997年02月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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