文献
J-GLOBAL ID:200902130191457415
整理番号:01A0778456
スパッタリングで形成したTiリッチTi-Ni薄膜の形状記憶挙動に及ぼす組成及び焼なましの影響
Effects of Composition and Annealing on Shape Memory Behavior of Ti-Rich Ti-Ni Thin Films Formed by Sputtering.
著者 (4件):
ISHIDA A
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
,
SATO M
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
,
KIMURA T
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
,
SAWAGUCHI T
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
資料名:
Materials Transactions
(Materials Transactions)
巻:
42
号:
6
ページ:
1060-1067
発行年:
2001年06月
JST資料番号:
G0668A
ISSN:
1345-9678
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)