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著者 (6件)：
資料名：
巻： 76 号： 2 ページ： 176-178 発行年： 2000年01月10日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902130557712812
整理番号：00A0154744
Si上のAl2O3超薄膜に対する高分解能深さ分析
High-resolution depth profiling in ultrathin Al2O3 films on Si.
GUSEV E P
(IBM T.J. Watson Res. Center, New York)
,
COPEL M
(IBM T.J. Watson Res. Center, New York)
,
CARTIER E
(IBM T.J. Watson Res. Center, New York)
,
BAUMVOL I J R
(UFRGS, RS, BRA)
,
KRUG C
(UFRGS, RS, BRA)
,
GRIBELYUK M A
(IBM Analytical Serv., New York)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 76 号： 2 ページ： 176-178 発行年： 2000年01月10日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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