文献
J-GLOBAL ID:200902130589717255
整理番号:01A0433744
高密度SiH4マイクロ波プラズマを用いた微結晶シリコン薄膜の低温形成
Low temperature formation of microcrystalline silicon films using high-density SiH4 microwave plasma.
著者 (5件):
SAKUMA Y
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
LIU H
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
SHIRAI H
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
MORIYA Y
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
UEYAMA H
(Nihon Koshuha Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
386
号:
2
ページ:
261-266
発行年:
2001年05月15日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)