文献
J-GLOBAL ID:200902131015921713
整理番号:93A0644362
組成変調非晶質遷移金属薄膜の構造緩和に依存した原子拡散
Atomic diffusion dependent on structure relaxation in compositionally modulated amorphous transition metal films.
著者 (2件):
MURATA M
(Gakushuin Univ., Tokyo, JPN)
,
MIZOGUCHI T
(Gakushuin Univ., Tokyo, JPN)
資料名:
Key Engineering Materials
(Key Engineering Materials)
巻:
81/83
ページ:
297-302
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0744C
ISSN:
1013-9826
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)