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資料名：
巻： 20 号： 4 ページ： 1457-1464 発行年： 2002年07月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902131581852729
整理番号：02A0717899
正規化高周波電界を用いた磁気中性ループ放電のプラズマ局在化に関する研究
Studies on the plasma localization of a magnetic neutral loop discharge using normalized radio frequency electric field.
SUNG Y-M
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
,
HONDA C
(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 20 号： 4 ページ： 1457-1464 発行年： 2002年07月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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