文献
J-GLOBAL ID:200902131659995114
整理番号:00A0747065
低補償ほう素ドープホモエピタキシャルダイアモンド膜
Low-compensated boron-doped homoepitaxial diamond films.
著者 (5件):
YAMANAKA S
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
TAKEUCHI D
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
WATANABE H
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
OKUSHI H
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
KAJIMURA K
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
資料名:
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻:
9
号:
3/6
ページ:
956-959
発行年:
2000年04月
JST資料番号:
W0498A
ISSN:
0925-9635
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)