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資料名：
巻： 80 号： 6 ページ： 944-946 発行年： 2002年02月11日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902131867066720
整理番号：02A0225962
非晶質けい素薄膜のニッケル金属誘起横方向結晶化のその場観察
In situ observation of nickel metal-induced lateral crystallization of amorphous silicon thin films.
MIYASAKA M
(Seiko Epson Corp., Suwa, JPN)
,
MAKIHIRA K
(Kyushu Inst. Technol., Iizuka, JPN)
,
ASANO T
(Kyushu Inst. Technol., Iizuka, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 80 号： 6 ページ： 944-946 発行年： 2002年02月11日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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