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資料名：
巻： 39 号： 9A ページ： 5033-5038 発行年： 2000年09月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902132385990621
整理番号：00A0912459
シリコンのミクロ構造変態 水素アニーリングによるシリコン原子の表面マイグレーションを利用したシリコン表面パターン形成のための新たに開発した変態技術
Micro-structure Transformation of Silicon. A Newly Developed Transformation Technology for Patterning Silicon Surfaces using the Surface Migration of Silicon Atoms by Hydrogen Annealing.
SATO T
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
MITSUTAKE K
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
MIZUSHIMA I
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
TSUNASHIMA Y
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39 号： 9A ページ： 5033-5038 発行年： 2000年09月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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