文献
J-GLOBAL ID:200902132657703198
整理番号:97A0239113
単結晶MgOターゲットを用いて高周波マグネトロンスパッタリングにより蒸着したMgO薄膜の構造に及ぼすN2分圧の影響
Effect of N2 partial pressure on the structure of MgO thin films deposited by radio frequency-magnetron sputtering with single-crystal MgO target.
著者 (4件):
MISAKI Y
(Takuma National Coll. Technol., Kagawa, JPN)
,
MIKAWA M
(Takuma National Coll. Technol., Kagawa, JPN)
,
ISHIGURO T
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
,
HAMASAKI K
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
15
号:
1
ページ:
48-51
発行年:
1997年01月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)