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資料名：
巻： 29 号： 9 ページ： 566-572 発行年： 2000年09月10日
JST資料番号： G0125B ISSN： 0389-6625 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：200902132918075980
整理番号：00A0935143
回折光学素子作製のための電子ビーム近接効果補正法の有効性と限界
Validity and Limitation of a Proximity-Compensation Method for Febricating Diffractive Optical Elements Using the Direct-Writing Electron-Beam Lithography.
岡野正登
(大阪科学技術セ)
,
山本和也
(ナルックス)
,
四谷任
(大阪科学技術セ)
,
平井義彦
(大阪府大 工)
,
菊田久雄
(大阪府大 工)
資料名：
光学
(Japanese Journal of Optics)
巻： 29 号： 9 ページ： 566-572 発行年： 2000年09月10日
JST資料番号： G0125B ISSN： 0389-6625 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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