文献
J-GLOBAL ID:200902133381539867
整理番号:02A0961699
超分子テンプレート法により製造したメソ細孔性シリカ中の光過程
Photoprocesses in mesoporous silicas prepared by a supramolecular templating approach.
著者 (1件):
OGAWA M
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
資料名:
Journal of Photochemistry and Photobiology. C. Photochemistry Reviews
(Journal of Photochemistry and Photobiology. C. Photochemistry Reviews)
巻:
3
号:
2
ページ:
129-146
発行年:
2002年10月25日
JST資料番号:
W1244A
ISSN:
1389-5567
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)