文献
J-GLOBAL ID:200902134710956730
整理番号:98A0987450
Ar/O2混合物雰囲気中でのスパッタリングにより堆積したRu電極
Ru Electrode Deposited by Sputtering in Ar/O2 Mixture Ambient.
著者 (3件):
AOYAMA T
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
MURAKOSHI A
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
IMAI K
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
37
号:
10
ページ:
5701-5707
発行年:
1998年10月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)