文献
J-GLOBAL ID:200902135172744146
整理番号:00A0812136
分子ビームエピタクシーによるSi(001)上のBi2Sr2CuOx膜のエピタキシャル成長
Epitaxial growth of Bi2Sr2CuOx films onto Si(001) by molecular beam epitaxy.
著者 (5件):
TAMBO T
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
ARAKAWA T
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
SHIMIZU A
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
HORI S
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
TATSUYAMA C
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
159/160
ページ:
161-166
発行年:
2000年06月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)