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著者 (4件)：
資料名：
巻： 36 号： 12B ページ： 7749-7753 発行年： 1997年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902135282740642
整理番号：98A0247991
フォトレジストのイオンビーム改質と電界エミッタへのその応用
Ion Beam Modification of a Photoresist and Its Application to Field Emitters.
ASANO T
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
,
SASAGURI D
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
,
SHIBATA E
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
,
HIGA K
(Kyushu Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36 号： 12B ページ： 7749-7753 発行年： 1997年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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